2)第九十四章 光刻机比想象的容易_我体内有个黑洞
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  间上,每秒内的误差,不得超过十亿分之一秒;距离上,每秒不能超过1纳米,并且还要设计一套‘偏差纠正’系统,只要误差累积过大,就会自动纠正,让系统长期稳定的运转下去。”

  “目前我们正在全力攻克控制系统,纠偏系统稍稍靠后,但也安排了团队进行攻关。”

  “当然如果从岛国进口的相关零件,很快能到我们手中,可能三个月内,我们就能实现击打频率突破2万次。”

  岛国?

  三个月?

  卫明摇头笑了笑,道:“缺什么零件,就交给我吧,我给你们捣鼓出来。”

  接着他连续捣鼓了三天时间。

  激光频率控制器。

  高灵敏距离感应器。

  还有这个什么器,那个什么装置,以及卫明叫不出专业名称的东西。

  三天内他一共搞了十几个。

  然后让蒲伟才他们,把这些装置,塞入到控制系统中,以极高精度要求,组装到了一起。

  再开启了试运行。

  “释放锡滴,初始频率每秒1滴。”蒲伟才进行指挥说道。

  “开始释放。”

  “两次击打成功,摊平形状完美,激发效果完美!”

  “增加释放频率。”

  “每秒50次试验成功。”

  “每秒500次试验成功!”

  “每秒5150次试验成功!追平最高纪录。”操作员声音微颤的道。

  “继续增加!往上加高一点!”

  蒲伟才也开始激动了,这才第一次进行调试而已,居然就追平了上一套零件不断调试数百次创造的最高纪录?

  “每秒5500次试验成功,创造新的纪录!”

  “再加!”

  每秒7000

  每秒9000

  每秒1万

  ……

  一直加到每秒2万,满足使用频率要求。

  所有人都被震惊到麻木,依然是取得成功!

  “再加,再往上加!”

  每秒3万

  每秒4万

  每秒4万5

  每秒5万!

  “锡滴释放频率达到上限,特么还是取得成功!”操作员毫无形象的狂喊。

  “转化光强是额定光强的倍!”

  向广林眼睛通红的大吼:“这意味着这台光刻机处理晶元的效率,至少艾思迈EUV的两倍以上,我们一台,能顶他们两台!”

  “你们别叫!”

  蒲伟才高高挥起了手,目光盯着持续时间后的数据,极力压制情绪的说道:“看看每秒5万滴锡滴,每秒10万次击打的情况下,这个系统能稳定工作多长时间?你们别吵,你们的噪音,可能影响到它的发挥。”

  所有人都安静了下来。

  屏住了呼吸。

  目光都死死盯上了持续时间。

  5分钟

  15分钟

  第29分38秒

  由于累积误差越来越大,没有纠偏系统进行纠正,整个系统终于自动停止了运行。

  啪!

  蒲伟才右拳用力轰击自己左掌,满脸涨红的说道:“3分钟就足够了,只要3分钟,就不用配套设计非常复杂

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