条不同的道路,这也可能是国家的两头押注。
但用钱就能买来技术吗?水淼并不认同紫电的策略,不要到时候只剩下一地鸡毛。不过他只管做好自己的就行了,剩下的交给时间。
“水工,您过来看看,这个数据有点异常。”随着水淼进入研发室,就能看到那一台光刻机已经被改造的面目全非了。
近一年的时间,在数百人的共同努力下,关于光刻机各方面涉及到的原理和算法,都已经被摸底的七七八八了。
光是这一项,就可以一下子拉开和国内其他竞争对手十年的距离。
光源,镜头,双平台是光刻机的三大核心,现在研发团队要做的就是将这三大核心技术就是找出国产替代技术,绕过阿美的专利。
搞芯片真的是烧钱,一年半的时间,水淼花光了130亿,但银行给水淼五年无息放款两百亿,这也是国家给的支持。
但好在这次,晶圆厂已经可以投入使用,甚至,水淼一行人还对硅片进行了技术提升,达到世界领先水平。
光刻机的项目也取得了进展,复刻出来的国产光刻机虽然只能进行28纳米的芯片光刻,但这也是实现了巨大的飞跃!!
因为28纳米这个节点,被证明是一个在成本、性能、需求等多方面达到了比较优化的组合的一个节点。
很多芯片产品,28纳米能够满足自己的需求。因此在半导体制造业界仍然占据了很大的一块市场份额。
这也是给了国内芯片制造留了一个保命符。所以当复兴半导体造出28纳米的光刻机时,国家直接发放了100亿的补助。
甚至水淼的云华手机,使用自产28纳米芯片,就可以大大减少代工需求的比例,从而降低中低端手机的成本。
到这一步,水淼甚至已经达到国内领先水平了,但他觉得这才刚刚开始攀登呢,他要站在山顶才行。
“……很抱歉打扰大家的雅兴,我知道大家都在为28纳米的成功而欢呼庆祝。但我不得不说,同志们,我们需要进入14纳米时代,实在不好意思,在大家刚进入28纳米时代,就急着让大家继续奔跑,但是前方风景更好……”
水淼现在朝着14纳米的制程推进了,理论上来说28纳米的光刻机,在双倍曝光的基础下,也能够光刻14纳米的芯片,但是次品率会大大增加,非常的得不偿失。
而14纳米光刻机,就目前来说是高端的技术。双倍曝光的情况下,它可以光刻7纳米制程的芯片,甚至还可以四倍曝光……。
一旦14纳米光刻机的出现,这就完全不一样了。可以说,整个芯片行业都会发生翻天覆地的变化。
当前,水淼被光刻机的镜头难住了。光刻机的光源要经过多次反射,每次反射都会增加误差,这就要求镜面的平整度极
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