条不同的道路，这也可能是国家的两头押注。

　　但用钱就能买来技术吗？水淼并不认同紫电的策略，不要到时候只剩下一地鸡毛。不过他只管做好自己的就行了，剩下的交给时间。

　　“水工，您过来看看，这个数据有点异常。”随着水淼进入研发室，就能看到那一台光刻机已经被改造的面目全非了。

　　近一年的时间，在数百人的共同努力下，关于光刻机各方面涉及到的原理和算法，都已经被摸底的七七八八了。

　　光是这一项，就可以一下子拉开和国内其他竞争对手十年的距离。

　　光源，镜头，双平台是光刻机的三大核心，现在研发团队要做的就是将这三大核心技术就是找出国产替代技术，绕过阿美的专利。

　　搞芯片真的是烧钱，一年半的时间，水淼花光了130亿，但银行给水淼五年无息放款两百亿，这也是国家给的支持。

　　但好在这次，晶圆厂已经可以投入使用，甚至，水淼一行人还对硅片进行了技术提升，达到世界领先水平。

　　光刻机的项目也取得了进展，复刻出来的国产光刻机虽然只能进行28纳米的芯片光刻，但这也是实现了巨大的飞跃！！

　　因为28纳米这个节点，被证明是一个在成本、性能、需求等多方面达到了比较优化的组合的一个节点。

　　很多芯片产品，28纳米能够满足自己的需求。因此在半导体制造业界仍然占据了很大的一块市场份额。

　　这也是给了国内芯片制造留了一个保命符。所以当复兴半导体造出28纳米的光刻机时，国家直接发放了100亿的补助。

　　甚至水淼的云华手机，使用自产28纳米芯片，就可以大大减少代工需求的比例，从而降低中低端手机的成本。

　　到这一步，水淼甚至已经达到国内领先水平了，但他觉得这才刚刚开始攀登呢，他要站在山顶才行。

　　“……很抱歉打扰大家的雅兴，我知道大家都在为28纳米的成功而欢呼庆祝。但我不得不说，同志们，我们需要进入14纳米时代，实在不好意思，在大家刚进入28纳米时代，就急着让大家继续奔跑，但是前方风景更好……”

　　水淼现在朝着14纳米的制程推进了，理论上来说28纳米的光刻机，在双倍曝光的基础下，也能够光刻14纳米的芯片，但是次品率会大大增加，非常的得不偿失。

　　而14纳米光刻机，就目前来说是高端的技术。双倍曝光的情况下，它可以光刻7纳米制程的芯片，甚至还可以四倍曝光……。

　　一旦14纳米光刻机的出现，这就完全不一样了。可以说，整个芯片行业都会发生翻天覆地的变化。

　　当前，水淼被光刻机的镜头难住了。光刻机的光源要经过多次反射，每次反射都会增加误差，这就要求镜面的平整度极

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